Proe几何约束的曲线阵列

最终结果如下图所示 。

方法：

1.点击拉伸，在FRONT平面绘制如下图所示的截面。

对称拉伸350，厚度设置为5，如下图所示。

2.在TOP平面绘制如下图所示的草绘。

3.对上一步的草绘1的图元进行复制。在过滤器中选择“几何”，按住shift键依次选择下面的两条直线，然后按Ctrl+C和Ctrl+V进行复制，点击勾号完成复制。

采用上面的方法对下面的两条图元进行复制。

复制这两条草绘图元目的是将两个图元转换为一个图元。

4.按住Ctrl选择下面的三个曲面，然后按Ctrl+C和Ctrl+V进行复制，点击勾号完成复制。

5.对上一步复制的曲面进行修剪。选择上一步的复制曲面，点击【编辑】-【修剪】，选择TOP平面作为修剪参照。

6.点击【编辑】-【投影】，选择“投影草绘”，点击“编辑”进入草绘环境。

首先我们参照草绘1，在草绘1的图元绘制一条对角线并将其转换为构造线。最后绘制一条直线，这条直线与对角线垂直。

接下来进行最关键的地方了。我们必须对直线的两端进行约束，从而保证直线始终在草绘1的长方形上。

方法：点击右侧的“重合”约束，依次点击直线的一端和复制特征“复制1”，即复制的两个图元，从而保证直线的一端始终在该复制的两条直线上。直线的另一端通过重合约束固定到复制2的图元上。

7.进行阵列。按照下图进行设置。

完成。